超纯水系统总体来说一般可分为三个部分: 超纯水制造区(CUB部分); 超纯水抛光循环区(FAB部分); 超纯水输送管网(FAB各使用区)。
其中超纯水制造区最为复杂其又可分为:预处理、一次纯水处理、超纯水处理三个部分。 预处理部分主要包括:沙滤、活性炭塔(有的厂商在沙滤前还增设反应槽、气浮池); 一次纯水部分主要包括:多级反渗透、阴阳离子交换塔、脱气塔(DG)、保安过滤器、紫外线杀菌器等。
超纯水部分主要包括:MDG(脱氧膜组)、TOC-UV杀菌器、混床(MB)及终端过滤器。 但是由于考虑到在向工艺线设备输送高纯水过程中,输水管道会对水质再次造成污染,因而在FAB内一般都设立抛光循环系统。抛光循环系统主要以MB为核心,再加上超滤设备(UF),以除去在向工艺生产线输送纯水的过程中,管网溶入水中的杂质。
超纯水制取工艺推荐
1、一级RO+EDI+抛混:产水电阻率≥18MΩ.CM(25℃),其余指标符合电子级超纯水规范
源水→源水箱→增压泵→砂滤器→炭滤器→软化器/阻垢剂→保安过滤器→高压泵→一级反渗透→一级水箱→增压泵→精滤器→EDI电除盐装置→超纯水箱(建议氮气保护)→输送泵→抛光混床→UV/TOC→精滤器→用水点→回水(建议管道循环、无死水)
注意:该工艺要求原水水质情况较好、否则会对EDI电除盐系统造成不可修复损伤
2、二级RO+EDI+抛混:产水电阻率≥18MΩ.CM(25℃),其余指标符合电子级超纯水规范
源水→源水箱→增压泵→砂滤器→炭滤器→软化器/阻垢剂→保安过滤器→高压泵→一级反渗透→一级水箱→PH调节→高压泵→二级反渗透→二级水箱→增压泵→精滤器→EDI电除盐装置→超纯水箱(建议氮气保护)→输送泵→抛光混床→UV/TOC→精滤器→用水点→回水(建议管道循环、无死水)
注意:如微粒子要求与TOC要求较高,建议后段设置脱除微粒子与TOC指标的专用超滤UF膜(日本旭化成)
3、盘滤+UF+二级RO+EDI+抛混:产水电阻率≥18MΩ.CM(25℃),其余指标符合电子级超纯水规范
源水→源水箱→增压泵→盘滤→袋滤→超滤UF→超滤水箱→中间泵→保安过滤器→高压泵→一级反渗透→一级水箱→PH调节→高压泵→二级反渗透→二级水箱→增压泵→精滤器→EDI电除盐装置→超纯水箱(建议氮气保护)→输送泵→抛光混床→UV/TOC→精滤器→用水点→回水(建议管道循环、无死水)
注意:
1、如微粒子要求与TOC要求较高,建议后段设置脱除微粒子与TOC指标的专用超滤UF膜(日本旭化成)
2、以上工艺为全膜法工艺
3、一级RO+三级抛混:产水电阻率≥18MΩ.CM(25℃),其余指标符合电子级超纯水规范
源水→活性炭滤芯→10um滤芯→5um滤芯→高压泵→反渗透RO系统→一级抛光混床→二级抛光混床→三级抛光混床→精滤器→超纯水箱(建议氮气保护)→输送泵→UV/TOC→精滤器→用水点→回水(建议管道循环、无死水)
超纯水设备主要用途
1、半导体行业:用于晶元6~12寸切割、清洗、再生、封测用水、半导体设备清洗、电子级无尘布无尘服清洗。
2、太阳能光伏行业:单晶硅、多晶硅切片清洗、太阳能电池、石英坩埚、多晶硅方舟、光伏玻璃、高纯硅粉。
3、LCD、LED、OLED生产清洗用水,光学摄像头清洗,光学材料清洗,导电玻璃清洗。
4、半导体集成电路板,线路板生产清洗用超纯水。
5、锂电池材料(磷酸铁锂、三元材料、锂电池隔膜)、蓄电池、锌锰电池生产用水。
6、电子级超纯化学试剂用纯水,纳米级电子陶瓷材料纯水、尖端磁性材料用纯水、航空新材料生产用水。
我公司优势
● 一对一专业服务,免费上门勘测场地,考虑放置区域与进场空间,免费检测原水水质。
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● 专业团队配合设计、结合一对一服务人员的现场勘查、提供水处理解决方案一站式服务。
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● 按照工艺需求分段检测,可检测电导率、电阻率、PH、ORP、温度、流量、流速、压力等参数,确保每一个工艺环节的产品水都合格,而不污染后段成品水,重视过程控制。
● 综合投入成本与使用成本平衡考量的原则,设计适合客户的产品。
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